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  • 1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统
    时间:2024-05-09生产地址:天津厂商性质:生产厂家浏览量:4708

    产品用途:此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结真空淬火退火,快速降温等工艺实验。

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  • 1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统
    时间:2024-05-09生产地址:天津厂商性质:生产厂家浏览量:5007

    产品用途:此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和冷却。

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  • CVD系统
    时间:2024-05-09生产地址:天津厂商性质:生产厂家浏览量:11713

    CVD系统系周期作业,供企业实验室,大专院校,科研院所等单位选用,设备为用户提供具体真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体,纳米技术,碳纤维等新材料新工艺领域。

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