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原来RTP快速退火炉是由这7个部分组成的!

点击次数:211    发布时间:2022-07-14
  RTP快速退火炉采用先进的微电脑控制系统,采用PID闭环控制温度,可以达到*的控温精度和温度均匀性,并且可配置真空腔体,也可根据用户工艺需求配置多路气体。目前设备可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料,离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。本设备具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点。也可用于各种半导体材料的CVD工艺的热处理。

 

  RTP快速退火炉主要由真空腔室、加热室、进气系统、真空系统、温度控制系统、气冷系统、水冷系统等几部分组成。
  1.真空腔室:真空腔室是快速退火炉的工作空间,晶圆在这里进行快速热处理。
  2.加热室:加热室以多个红外灯管为加热元件,以耐高温合金为框架、高纯石英为主体。
  3.进气系统:真空腔室尾部有进气孔,控制的进气量用来满足一些特殊工艺的气体需求。
  4.真空系统:在真空泵和真空腔室之间装有高真空电磁阀,可以有效确保腔室真空度,同时避免气体倒灌污染腔室内的被处理工件。
  5.温度控制系统:温度控制系统由温度传感器、温度控制器、电力调整器、可编程控制器、PC及各种传感器等组成。
  6.气冷系统:真空腔室的冷却是通过进气系统向腔室内充入惰性气体,来加速冷却被热处理的工件,满足工艺使用要求。
  7.水冷系统:水冷系统主要包括真空腔室、加热室、各部位密封圈的冷却用水。
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